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Gasinjektionssystem (GIS)

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Das Gasinjektionssystem (GIS) ist eine zusätzliche Komponente für FIB-Anwendungen, die bei FIB-basierten Ätz- (Materialabtrag) und Abscheidungsprozessen (Materialabscheidung) unterstützt. Um mehr über diese Prozesse zu erfahren, lesen Sie den Artikel FIB-Ätzgrundlagen Schritt für Schritt und FIB-Abscheidungsgrundlagen Schritt für Schritt.

GIS ist hauptsächlich für folgende Anwendungen konzipiert:

  • TEM-Lamellenvorbereitung
  • Querschnitt
  • IC (integrierte Schaltung) homogenisiert die Prozesse des Chip-Reverse Engineerings
  • Nanostrukturierung und andere lithographische Techniken

GIS wird in zwei Konfigurationen von TESCAN angeboten – OptiGIS™ und 5-GIS. Beide Versionen bestehen aus vier Hauptteilen – einem Reservoir mit Gasprecursor, einem Kapillarrohr und einer Düse. OptiGIS™ hat nur eine Düse für ein einzelnes Gas, welches pneumatisch eingeführt wird, wenn das GIS verwendet wird. Das 5-GIS hat fünf Düsen für fünf verschiedene Gase – jedes Gas hat seine eigene Düse. Jede 5-GIS-Düse ist motorisiert, was eine hochpräzise Navigation jeder Düse für optimale Arbeitsparameter ermöglicht. Der Arm der 5-GIS wird durch Schrittmotoren zum XYZ-Mikrotisch bewegt.

OptiGIS™ – ein optionales Einleitungs-GIS (Düse) mit pneumatischer Einbringung.

 

5-GIS – enthält 5 unabhängige Gasleitungen (Düsen). Es ermöglicht eine hochpräzise Navigation der Düse für optimale Arbeitsparameter.

 

Die folgenden Gase werden standardmäßig geliefert (sowohl OptiGIS™ als auch 5-GIS):

  • olfram (W) für die Metallabscheidung
  • Platin (Pt) für die Metallabscheidung
  • Kohlenstoff (C) zur Ablagerung
  • Isolator (SiOx) für die Abscheidung
  • H2O für verbessertes Ätzen
  • Si, SiO2, Si3N4 oder W (XeF2) für selektives Ätzen
  • Spezielle Gase wie A-Maze, Nanoflat und Chase für Delayering