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Eine Grundvoraussetzung für die Untersuchung von Objekten im Rasterelektronenmikroskop ist die elektrische Leitfähigkeit der Probe. In der technischen Anwendung ist diese Idealbedingung jedoch nicht immer gegeben. In vielen Fällen handelt es sich bei den zu untersuchenden Werkstücken sogar um klassische Nichtleiter (Keramiken, Kunststoffe, Salze, etc.), die ohne Probenbehandlung sehr leicht zu Aufladungsphänomenen der Probenoberfläche im REM führen können.

Mit dem Aufkommen der Niedervakuum-REM (siehe Artikel „Niedervakuum-Modus“) erschien es zunächst, als würden die in der Elektronenmikroskopie üblichen Präparationstechniken wie das Sputtern und die Kohlenstoff-Bedampfung überflüssig. In der Praxis erwies sich dies jedoch als nur teilweise zutreffend. Die Niedervakuumtechnologie ist unverzichtbar, gerade dann, wenn Beschichtungstechniken die für den Anwender interessanten Probeninformationen verdecken würden. Allerdings stellt sie keine zeitsparende Alternative zur Umgehung sonst notwendiger Präparationsschritte dar. So nimmt oftmals die Optimierung der Aufnahmebedingungen im Niedervakuum-Modus mehr Zeit in Anspruch als konventionelle Beschichtungstechniken. Bis zu einem gewissen Grad lassen sich Aufladungen durch die Abbildung im Niederspannungsbereich (kleiner 2 kV) vermeiden. Bei sich stark aufladenden Proben ist aber eine Präparation mittel Beschichtung unabdingbar.