Das Gasinjektionssystem (GIS) ist eine zusätzliche Komponente für FIB-Anwendungen, die bei FIB-basierten Ätz- (Materialabtrag) und Abscheidungsprozessen (Materialabscheidung) unterstützt. Um mehr über diese Prozesse zu erfahren, lesen Sie den Artikel FIB-Ätzgrundlagen Schritt für Schritt und FIB-Abscheidungsgrundlagen Schritt für Schritt.
GIS ist hauptsächlich für folgende Anwendungen konzipiert:
- TEM-Lamellenvorbereitung
- Querschnitt
- IC (integrierte Schaltung) homogenisiert die Prozesse des Chip-Reverse Engineerings
- Nanostrukturierung und andere lithographische Techniken
GIS wird in zwei Konfigurationen von TESCAN angeboten – OptiGIS™ und 5-GIS. Beide Versionen bestehen aus vier Hauptteilen – einem Reservoir mit Gasprecursor, einem Kapillarrohr und einer Düse. OptiGIS™ hat nur eine Düse für ein einzelnes Gas, welches pneumatisch eingeführt wird, wenn das GIS verwendet wird. Das 5-GIS hat fünf Düsen für fünf verschiedene Gase – jedes Gas hat seine eigene Düse. Jede 5-GIS-Düse ist motorisiert, was eine hochpräzise Navigation jeder Düse für optimale Arbeitsparameter ermöglicht. Der Arm der 5-GIS wird durch Schrittmotoren zum XYZ-Mikrotisch bewegt.
OptiGIS™ – ein optionales Einleitungs-GIS (Düse) mit pneumatischer Einbringung.
5-GIS – enthält 5 unabhängige Gasleitungen (Düsen). Es ermöglicht eine hochpräzise Navigation der Düse für optimale Arbeitsparameter.
Die folgenden Gase werden standardmäßig geliefert (sowohl OptiGIS™ als auch 5-GIS):
- olfram (W) für die Metallabscheidung
- Platin (Pt) für die Metallabscheidung
- Kohlenstoff (C) zur Ablagerung
- Isolator (SiOx) für die Abscheidung
- H2O für verbessertes Ätzen
- Si, SiO2, Si3N4 oder W (XeF2) für selektives Ätzen
- Spezielle Gase wie A-Maze, Nanoflat und Chase für Delayering